Sputteranlage

© E308-01

Sputteranlage

DC/RF-Magnetron-Sputtersystem

UHV-Vakuumsystem

3'' Einzel-Kathoden-Konfiguration

Plasmagenerator MKS ENI RPG 10

Substraterwärmung bis 700 °C

Hochleistungs-Impuls-Magnetron-Sputter-System

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Hochleistungs-Impuls-Magnetron-Sputter-System

entworfen von Stefan Rißlegger

HiPIMS-System im Labormaßstab mit Fokus auf die Abscheidung von TM-Carbiden

Eigens entwickeltes UHV-System

Einzelne 3-Zoll-Kathodenkonfiguration

Prozessgas Acetylen (C2H2)

DC-, MF-, HF- und HiPIMS-Sputtern Melec SIPP-Impulsgenerator

  • Angetrieben durch 3x ADL DC-Generator 3 kW
  • Kann DC + HiPIMS-Signal überlagern
  • DC oder synchronisiertes Vorspannungspotential

Substraterwärmung bis 650 °C

DC/RF-Magnetron-Sputtersysteme

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DC/RF-Magnetron-Sputtersysteme

  • DC/RF-Magnetron-Sputtersystem
  • UHV-Vakuumsystem
  • Konfokale Anordnung von 3 Kathoden (1x3'', 2x2'')
  • Plasmagenerator MKS ENI RPG 10
  • Substraterwärmung bis 700 °C

Im Haus entwickeltes Ultrahochvakuum System

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Im Haus entwickeltes Ultrahochvakuum System

Entworfen von Philipp Ertelthaler

Halbindustrielles HiPIMS-Abscheidungssystem

intern entwickeltes UHV-Vakuumsystem

Konfiguration mit mehreren Kathoden

  • 2x6''
  • 2x3''

DC-, HF- und HiPIMS-Sputtern

Solvix HiP3 5 kW Plasmageneratoren

Substraterwärmung bis 600 °C

Load-Lock-Transfersystem mit der Fähigkeit für vollautomatische Abscheidungsläufe

Bild der Industrielle Lichtbogenverdampfungs- und Sputteranlage Innova

© Dagmar Fischer

Bild der Industrielle Lichtbogenverdampfungs- und Sputteranlage Innova

Industrielle Lichtbogenverdampfungs- und Sputteranlage

Ausgestattet mit 6 Lichtbogenquellen und 4 Sputterquellen

Vielseitige Magnetsysteme

Balzers Central-Lichtbogen-Ätztechnologie

Abscheidungstemperaturen bis 600 °C

Industrielles 4.0 Zielmaterialspeichersystem

Kapazität für über 2000 6''-Targets in Balzers-Geometrie