Das Projekt

In dem „Projekt Noreia“ wurde eine PVD-Beschichtungsanlage neu entworfen und entwickelt, die auf höchstem Stand der Technik die modernsten Erneuerungen in den Bereichen Automatisierung und Steuerung des Beschichtungsprozesses beinhaltet. Die Konstruktion und Entwicklung erfolgte in Zusammenarbeit des Instituts für Werkstoffwissenschaft und Werkstofftechnologie (Prof. Paul H. Mayrhofer) mit der Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik der TU Wien. Ziel des hochmodernen Konzepts ist es, die Vorteile industrieller Beschichtungsanlagen mit Systemen im Labormaßstab zu verbinden, um ein ideales Setup für eine anwendungsorientierte Beschichtungsentwicklung bereitzustellen.

Industrielle Prozesse sind durch hohe Abscheideraten und optimale Targetausnutzung qualifiziert, die mit erhöhten Targetleistungsdichten und größeren Targetgeometrien verbunden sind. Beschichtungssysteme im Labormaßstab zeichnen sich durch Ultrahochvakuum (UHV)-Bedingungen und eine individuelle Prozesssteuerung aus, um neuartige Schichtsysteme gezielt mit unterschiedlichen Eigenschaften und Schichtarchitekturen abscheiden zu können. Noreia vereint all diese Aspekte in einem System.

Schematische Darstellung des HIPIMS Prinzips

Darüber hinaus ist die Beschichtungsanlage Noreia mit hochmodernen Magnetron-Sputterkathoden ausgestattet, die im konventionellen Direct Current Magnetron Sputter Mode (DCMS) bis hin zum weiterentwickelten High-Power Impulse Magnetron Sputter (HiPIMS) Mode betrieben werden können. Letzteres besonders um die Vorteile von DC-Magnetron-Sputtern und der Lichtbogenverdampfung zu vereinen, bei der Targetatome auch in einen ionisierten Zustand gebracht werden können, ohne dass möglicherweise sogenannte Droplets (Makroparikel des Targets) in der abgeschiedenen Schicht landen.

Ein Schleusensystem bietet die Möglichkeit für einen einfachen Substratwechsel, um die Hautpkammer ständig unter UHV-Bedingungen zu belassen. Darüber hinaus ist die PVD-Anlage Noreia mit einem innovativen Substratheiz- und -stromversorgungssystem ausgestattet, um die Abscheideparameter wie Substrattemperatur und -potential präzise einzustellen, wodurch die Keimbildung und das Filmwachstum beeinflussbar ist.

Alle Abscheideparameter wie Targetleistung, Substratheizung, Gasfluss, Druckregelung, Kühlsystem usw. werden über eine speicherprogrammierbare Steuerung (SPS) bedient, um dem Benutzer eine einfache Nutzung und gleichzeitig eine größtmögliche Flexibilität zu bieten.

Weitere Details zum Konzept und zum aktuellen Projektstand finden Sie unter Konzept und News.

Fünf Monate in fünf Minuten! Noreia ist bereit für die Arbeit!

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https://youtu.be/82UBJTldlsw

Zeitraffervideo der Herstellung der Oberflächenbeschichtungsanlage Noreia

HIP² Stickstoff/Argon-Plasma an 6″-Kathode

HIP² Argon-Plasma an 6″-Kathode

HIP² Argon plasma at 6″ cathode

HIP² Stickstoff/Argon-Plasma an 6″-Kathode

Warten auf die letzte Unterbaugruppe!

Foto der Noreia-Beschichtungsanlage im Bau
Foto der Noreia-Beschichtungsanlage im Bau
Foto vom Zusammenbau der Noreia Beschichtungsanlage
Foto der Noreia-Beschichtungsanlage im Bau

Danke GENCOA für die Unterstützung!

Foto der Noreia-Beschichtungsanlage im Bau

Noreias Montage schreitet voran!

Foto der Noreia-Beschichtungsanlage im Bau
Foto der Noreia-Beschichtungsanlage im Bau

Mission erfüllt! Wir haben unser neues Labor! Lasst uns Noreia zusammenbauen!

Bild des leeren Labors
Bild des leeren Labors
Bild des leeren Labors