Prof. Dr. Wolfgang Werner, Institut für Allgemeine Physik, Technische Universität Wien

Aufgrund der herausragenden Oberflächenempfindflichkeit ist XPS (x-ray photoelectron spectroscopy, Röntgenphotoelektronenspektroskopie) eines der wichtigsten Verfahren zur Analyse von Oberflächen und Nanostrukturen. Im Vortrag werden die Grundlagen und die experimentelle Methodik, insbesondere in Hinblick auf die Oberflächenempfindlichkeit, besprochen und anhand einiger praktischer Beispiele illustriert. Diese betreffen: chemische Bindungen und Reaktionen an Oberflächen, Tiefenprofilierung ultradünner Schichten mittels winkelaufgelöster XPS, Analyse der inelastisch gestreuten Elektronen, XPS unter dem Grenzwinkel für Totalreflexion, und Auger-Photoelektronen Koinzidenzspektroskopie. Zur Quantifizierung der Tiefenskala im Nanometerbereich bedarf es der Kalibrierung des "Nanomaßstabs" in der Tiefe mittels
Messung der Abschwächung eines Elektronenstrahls. Dies wird im letzten Teil des Vortrags behandelt. Der Vergleich zwischen Experiment und Theorie, im besonderen der Dichte-Funktional-Theorie (DFT) zeigt, dass es heutzutage möglich ist den benötigten "Maßstab" zur Tiefenkalibrierung theoretisch zu berechnen.