FEI Quanta 200 3D

Quanta 200 3D Rasterelektronenmikroskop
Ausstattung

Emitter: Wolfram
Betriebsspannung: 0.2 - 30 kV
Strahlstrom: 1 µA

  • ETD Sekundärelektronendetektor
  • BSE Detektor
  • GIS Detektor (für ESEM)
  • EDX: EDAX-Ametec Pegasus XM4
  • OIM: Digiview III mit Forward Scatter Detektor

    Ga+ Sidewinder Ionensäule
  • Auflösung: 10 nm (30 kV, 1 pA)
  • Betriebsspannung: 5 kV - 30 kV
  • Strahlstrom: 1 pA - 30 nA
  • Platin- und Wolfram Deposition
Spezifikationen
  • Auflösung: 3.5 nm (30 kV, Hochvakuum)
  • Auflösung: 3.5 nm (30 kV, Niedervakuum/ESEM)
  • Auflösung: 153 nm (3 kV, Niedervakuum/ESEM)
Anwendungsgebiete
  • Chemische Nanoanalytik (100 µm - 10 nm)
  • Strukturanalyse bis in den nm-Bereich
  • 3D Tomographie für Life Sciences
  • Zielpräparation für die Transmissionselektronenmikroskopie (TEM) mit nm-Präzision
  • 3D in-situ Analyse von Defekten oder Testbereichen in Metallen, Halbleitern und Keramiken
  • Präparation und Analyse von porösen Materialien
  • Präparation und Analyse von Proben bei tiefen Temperaturen auf einer Cryostage
  • Probenpräparation, -charakterisierung und -analyse bei Drücken bis zu 2600 Pa und hohen Luftfeuchtigkeiten
  • Aufladungsfreie Abbildung von nichtleitenden Proben im Niedervakuum Bereich bis 130 Pa
  • Defect repair in Halbleiterstrukturen
  • Schneiden von beliebigen Strukturen, unabhängig von den "Box, Circle, Line"-Standardwerkzeugen
  • Scripting zur vollautomatisierten Steuerung der FIB
  • Nanomachining,  Aufbau von Strukturen im Nanometerbereich durch Abscheidung von Material aus der Gasphase  im  Ionen- oder Elektronenstrahl
Besonderheiten
  • Cryoworkstation: Polaron (-186°C bis +50°C)
  • Nanomanipulatoren: Kleindiek Rotation-Tip, Microgripper
  • AFM: GeTec AFSEM, low-noise, self sensing

Geräteverantwortlicher

Portrait von Andreas Steiger-Thirsfeld