FEI Quanta 200 3D

Quanta 200 3D Rasterelektronenmikroskop

Emitter: Wolfram
Betriebsspannung: 0.2 - 30 kV
Strahlstrom: 1 µA

ETD Sekundärelektronendetektor
BSE Detektor
GIS Detektor (für ESEM)

EDX: EDAX-Ametec Pegasus XM4
OIM: Digiview III mit Forward Scatter Detektor

Ga+ Sidewinder Ionensäule
Auflösung: 10 nm (30 kV, 1 pA)
Betriebsspannung: 5 kV - 30 kV
Strahlstrom: 1 pA - 30 nA
Platin- und Wolfram Deposition

Auflösung: 3.5 nm (30 kV, Hochvakuum)
Auflösung: 3.5 nm (30 kV, Niedervakuum/ESEM)
Auflösung: 153 nm (3 kV, Niedervakuum/ESEM)

Chemische Nanoanalytik (100 µm - 10 nm)
Strukturanalyse bis in den nm-Bereich
3D Tomographie für Life Sciences
Zielpräparation für die Transmissionselektronenmikroskopie (TEM) mit nm-Präzision
3D in-situ Analyse von Defekten oder Testbereichen in Metallen, Halbleitern und Keramiken
Präparation und Analyse von porösen Materialien
Präparation und Analyse von Proben bei tiefen Temperaturen auf einer Cryostage
Probenpräparation, -charakterisierung und -analyse bei Drücken bis zu 2600 Pa und hohen Luftfeuchtigkeiten
Aufladungsfreie Abbildung von nichtleitenden Proben im Niedervakuum Bereich bis 130 Pa
Defect repair in Halbleiterstrukturen
Schneiden von beliebigen Strukturen, unabhängig von den "Box, Circle, Line"-Standardwerkzeugen
Scripting zur vollautomatisierten Steuerung der FIB
Nanomachining,  Aufbau von Strukturen im Nanometerbereich durch Abscheidung von Material aus der Gasphase  im  Ionen- oder Elektronenstrahl

Cryoworkstation: Polaron (-186°C bis +50°C)
Nanomanipulatoren: Kleindiek Rotation-Tip, Microgripper
AFM: GeTec AFSEM, low-noise, self sensing

Geräteverantwortlicher

Portrait von Andreas Steiger-Thirsfeld