Röntgenphotoelektronenspektrometer (XPS)

Bei dem UHV (Ultrahochvakuum) System des Spektrometers handelt es sich um ein Vier-Kammern-System bestehend aus Load Lock (1), Transfer-(2), Präparations(3)- und Analysekammer. Der Prototyp wurde von der Firma SPECS GmbH, Berlin, Deutschland so entworfen, dass er den speziellen Anforderungen verschiedener Forschungsbereiche der TU Wien an diese Analysetechnik gerecht wird.

Die monochromatische Röntgenquelle (u-Focus 350, AlKa (4)) erlaubt das Fokussieren des Röntgenstrahls auf Durchmesser zwischen 500um und 40um. Das Analysatorsystem (5) besteht aus einem Phoibos 150 WAL Analysator mit 2D-DelaylineDetektor, wodurch parallel zur Detektion der kinetischen Energie der Photoelektronen auch winkelabhängige Informationen von jeder Messung gewonnen werden. Zur Messung von Valenzelektronen befindet sich außerdem eine UV-Lampe (6) an dem System.

Die Proben können in der Analysekammer mittels Elektronenstoßheizung geheizt und mittels Flüssigstickstoff gekühlt werden. Eine Argon Ionen Quelle erlaubt das Reinigen der Probenoberflächen sowie die Aufnahme von Tiefenprofilen. Für nicht leitende Proben steht eine Elektronenquelle zur Aufladungskompensation zur Verfügung.

Bild vom Ultrahochvakuum System des Röntgenphotoelektronenspektrometer beschriftet sind die Komponenten: (1) Load Lock, (2) Transferkammer, (3) Präparationskammer, (4) Röntgenquelle, (5) Analysator, (6) UV Lampe

© Annette Foelske

Ultrahochvakuum System des Röntgenphotoelektronenspektrometer

UHV System: (1) Load Lock, (2) Transferkammer, (3) Präparationskammer, (4) Röntgenquelle, (5) Analysator, (6) UV Lampe

Bild vom Inneren der Analysekammer des Röntgenphotoelektronenspektrometer

© Annette Foelske

Blick in die Analysekammer